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生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机

生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

服务支持：

  • 产品描述

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    生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

    可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。
    设备结构及性能参数
    真空室为圆柱形、上开盖、前开门结构；使用材料均为奥氏体不锈钢304/321，表面电化学抛光处理，无微观毛刺，不会藏污纳垢。
    磁控溅射靶为矩形，沿真空室壁的圆周排列，可调整靶面与工件的距离。
    样品架为圆筒形，样品装载数量大；旋转运动为齿轮驱动式，动力直连输入，经齿轮驱动样品台转盘旋转，运行平稳，无抖动；密封可靠，故障率低。
    加热系统采用红外加热器，对真空环境无污染，加热均匀；采用具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。
    电气控制及操作系统工作稳定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。
    系统安全保护设置齐全，设备启动后可实行无人运行。
    设备重点性能参数

    极限真空度 　8X10-5Pa
    工作背景真空度 　8X10-4Pa
    工作背景真空到达时间 　＜40min（空气湿度低于45％；开门时间＜30min条件下从大气抽到工作真空度时间)
    样品加热温度 　室温~300℃
    样品架公转速度 　3~10r/min陆续在可调
    片内膜层均匀性 　＜5%
    片间膜层均匀性 　＜5%
    磁控靶数量 　3靶（可根据用户工艺扩展靶位）
    真空清洗离子靶 　1靶

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