Micro nano technology and high-end precision manufacturing
为客户创造更大价值
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Semiconductor field
半导体材料、 工芝和装备的研发设计 生产制造商
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Production-oriented TGV/TSV high vacuum magnetron sputtering coating machine
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Production high vacuum magnetron sputtering and ion assisted composite coating machine
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Production/experimental film deposition equipment
半导体材料与器件、微纳材料与器件及高级精密制造技术的研发设计和生产制造商
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HFCVD chemical vapor deposition equipment
微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产
大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、
高频器件及大功率激光器的散热热沉
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Advanced semiconductor material supplier based on autonomous equipment
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在
洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长
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总程系统
设备整体为cluster结构,由光电转换薄膜沉积系统、MAMS 电子剥离系统、排气封装系统、吸气材料真空涂敷系统、整体除气系统组成。可实现整体自动协调操作,也可各系统独立运行,互不干扰,系统间可设置互锁。316材质制造,预留若干法兰接口。
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HFCVD 热丝化学气相沉积设备
研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。
设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。
可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
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MBE分子束外延设备
分子束外延薄膜生长设备(MBE)(分子束外延MBE)该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺,实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。
分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有超高的真空环境,是在理想的环境下进行薄膜外延生长,它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素,得到理想的高精度薄膜。
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公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续开展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。
公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。
公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。
公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点召开科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。
进一步分析
依托哈尔滨工业大学(深圳)完备的实验平台和测试分析平台,为研发和生产给予支撑。
全球MBE市场稳步增长,中国腾博会官网半导体突破技术垄断
2025-05-23
2021年,全球分子束外延(MBE)系统市场规模约为5.5亿元人民币,展望至2028年,这一数字预计将攀升至9.6亿元,意味着在2022至2028年间,该市场将以8.3%的年复合增长率持续壮大。分子束外延系统在半导体及基础材料研究领域发挥着关键作用,其消费主力军包括欧洲、美国、日本以及中国等工业体系完备的国家,它们共同占据了全球超过八成的市场份额。
转发 科创要闻 | 丰富形式促服务 精准服务助创新
2025-05-21
2025年5月15日是全省第十九个“政务公开日”,围绕“深化政务公开、助力决战决胜”的活动主题,沈阳市科技创新服务中心以政务公开为契机,结合沈阳市科技创新政策宣传与助企服务需求,召开了专题调研走访活动。此次调研的为腾博会官网微纳技术(沈阳)有限公司,旨在宣传沈阳市科技创新平台建设成效、科技条件平台资源共享及创新券政策落实成果,有助于沈阳市科技中介服务联盟协同开展,进一步优化营商环境,助力企业创新突破。
薄膜沉积设备
2025-04-30
薄膜沉积设备分类薄膜沉积是指在硅片等衬底上沉积待处理的薄膜材料,所沉积薄膜材料主要是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属,沉积膜可为无定形、多晶的或者单晶。