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小型等离子清洗机（电感式）HITSemi-Plasma-C2

利用磁场的能量来激发和维持等离子体。将一组线圈（通常是平面线圈或螺旋线圈）绕在或置于反应腔室周围（或顶部），并施加高频研讨电。交变电流在线圈中产生一个强大的交变磁场，这个变化的磁场根据法拉第电磁感应定律，在反应腔内感应出强大的涡旋电场。感应出的涡旋电场使电子加速，最终激发气体产生等离子体。

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  • 产品描述

  • 利用磁场的能量来激发和维持等离子体。将一组线圈（通常是平面线圈或螺旋线圈）绕在或置于反应腔室周围（或顶部），并施加高频研讨电。交变电流在线圈中产生一个强大的交变磁场，这个变化的磁场根据法拉第电磁感应定律，在反应腔内感应出强大的涡旋电场。感应出的涡旋电场使电子加速，最终激发气体产生等离子体。

    高密度的活性自由基使其在化学清洗方面效率极高。可清洗三维立体工件和异形工件。非常适合处理对离子轰击敏感的材料和器件，如半导体芯片、微电子机械系统（MEMS）、高级封装等。

    主要特点
    小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本。
    处理温和均匀，适合精细、敏感器件。
    无电极污染，洁净度高。

    技术参数

    产品型号 HITSemi-Plasma-C2
    离子源功率 0~200W功率可调
    离子源频率 13.56MHz
    控制形式 半自动/全自动
    清洗时间 1s~9999s 可调
    真空度 ＜80Pa
    真空泵 抽气速率：4L/S（油雾过滤）
    内腔（圆形） 尺寸：φ160mm × 210mm
    材质：石英玻璃
    载物托盘 玻璃托盘，平行放置
    工艺气体 2路（N2、Ar、O2、H2选配）
    控制系统 PLC+触摸屏

    设备工作条件

    供电 AC 220V（±10V）50/60Hz
    功率 1.5KW
    工作环境温度 10℃～40℃
    工作环境湿度 ≤50%

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