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高真空电阻热蒸发镀膜一体设备 HITSemi-PVD-420TE

高真空电阻热蒸发镀膜一体设备采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，顺利获得加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。 可用于材料的物理和化学研究。可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。

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  • 产品描述

  • 高真空电阻热蒸发镀膜一体设备采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，顺利获得加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。
    可用于材料的物理和化学研究。可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。

    主要特点
    真空度高、抽速快、基片装卸方便。
    PID自动控温，成膜均匀、放气量小和温度均匀。

    技术参数

    产品型号 HITSemi-PVD-420TE
    基片尺寸 1" ~6“
    电阻热蒸发源 1个～4个
    电阻热蒸发源组件 钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件
    石英舟热蒸发源组件
    钨极或钨蓝热蒸发源组件
    钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）
    束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）
    腔体材质 304/316（选配）不锈钢，电解抛光
    真空系统 分子泵+机械泵
    极限真空 5×10-5Pa
    恢复工作背景真空 大气至7×10-4Pa，30分钟左右（新设备充干燥氮气）
    设备总体漏放率 关机12小时真空度≤8Pa
    工艺电源 直流蒸发电源、束源炉蒸发电源
    基片台 基片台可加热600℃、可旋转2~30转/分钟、可升降、可水冷（选配）
    膜厚均匀性 优于±5%
    控制形式 半自动/全自动
    等离子清洗源 可选配
    膜厚监控 可选配
    恒温制冷水箱 可选配
    空气压缩机 可选配

    设备工作条件

    供电 三相五线制，AC 380V，50Hz；接地电阻≤1Ω
    功率 根据设备规模配置，峰值功率（10KW~20KW）
    冷却水 ≤100L/min
    水压 0.1Mpa~0.15MPa
    水温 18℃～25℃
    气动部件供气压力 0.5MPa～0.7MPa
    质量流量控制器供气压力 0.05MPa～0.2MPa
    工作环境温度 10℃～40℃
    工作环境湿度 ≤50%

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