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薄膜沉积设备

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总程系统

设备整体为cluster结构，由光电转换薄膜沉积系统、MAMS 电子剥离系统、排气封装系统、吸气材料真空涂敷系统、整体除气系统组成。可实现整体自动协调操作，也可各系统独立运行，互不干扰，系统间可设置互锁。316材质制造，预留若干法兰接口。

科研型 高真空磁控溅射镀膜机

科研型 高真空磁控溅射镀膜机 Circular Sputter系列是我司科研类及中试类高真空磁控溅射仪，其主要是用圆形磁控溅射靶进行溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。

高真空电子束蒸发镀膜机

高真空电子束蒸发镀膜机（PVD镀膜设备）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。

小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备 HITSemi-LPCVD-150

小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备在低压高温的条件下，顺利获得化学反应气相沉积的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科研研究、实践教学、小型器件制造。

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