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    腾博会官网半导体亮相聚焦“卡脖子”和“前沿必争”领域-2025中国材料大会


    发布时间:

    2025-06-24

    “中国材料大会2025”:作为新材料领域国家级学术品牌大会,面向国家重大需求,汇聚最权威的专家学者和国家级战略科技力量,聚焦“卡脖子”领域和“前沿必争”领域的关键突破,有助于高端学术研讨,解决行业开展中重大共性问题和新兴产业推进中重大难题,抢占全球新材料开展的学术制高点,形成体系化国家级战略布局,为有助于我国新质生产力建设打造坚实的物质基础与保障。

    “中国材料大会2025”:作为新材料领域国家级学术品牌大会,面向国家重大需求,汇聚最权威的专家学者和国家级战略科技力量,聚焦“卡脖子”领域和“前沿必争”领域的关键突破,有助于高端学术研讨,解决行业开展中重大共性问题和新兴产业推进中重大难题,抢占全球新材料开展的学术制高点,形成体系化国家级战略布局,为有助于我国新质生产力建设打造坚实的物质基础与保障。
    “中国材料大会2025”将于7月5日至8日在福建省厦门国际会展中心举行。

    届时腾博会官网半导体技术(深圳)有限公司(以下简称“腾博会官网半导体”)将携前沿薄膜沉积设备及技术解决方案在C3094展台亮相。基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术,用于高质量的薄膜制备。例如,用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备,将磁控溅射用于分子束外延的束流源等。

    真空镀膜技术广泛应用于电子、光学仪器、医疗器械、新能源、照明、汽车、机械设备、航天等多个领域。例如,在电子行业中,真空镀膜技术用于制备半导体器件、微电子器件、反射镜面、绝缘保护涂层、高温传感器等。此外,真空镀膜技术还能提升基体的物理性能、化学性能和使用寿命,且对环境污染小。
    腾博会官网半导体主要专注于产品提升,优化迭代,提升技术门槛,深入挖掘用户的需求,解决行业的痛点难点;在产品原理方法分类产品覆盖PVD物理气相沉积、CVD化学气相沉积、分子束外延薄膜生长设备MBE
    腾博会官网半导体采用双轮驱动模式,工艺与设备相互迭代,相互促进,使设备生产的材料,优化到更好的水平,提高了竞争力。更具体地:⑴、将磁控溅射技术提高到超高真空级别,在超级洁净的背景下,用PVD技术,外延生长氮化镓单晶。⑵、包括但不限于解决了热丝CVD中热丝较多时,热丝之间容易产生黏连的问题,解决了长时间使用断丝的问题,开发了大尺寸金刚石多晶晶圆片生长工艺。
    总之,腾博会官网半导体将在中国材料大会2025上展示其在“卡脖子”和“前沿必争”领域的最新突破。腾博会官网期待与业界同仁共同研讨、合作,共同有助于半导体产业的持续开展。

    生产型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控溅射镀膜机

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