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腾博会官网半导体亮相“光电子+半导体”高端专业展-深圳第26届光博会

发布时间：

2025-09-17

当光电子的“光速”创新遇上半导体的“精微”突破，引领全球产业协同开展的两大高端专业大展，正跨界而来、闪耀腾博会官网。 9月10日，第26届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）与SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展亮相深圳国际会展中心。此次展会以超30万平方米的展示规模、汇聚5000余家参展企业、预计吸引16万专业观众，树立起“光电子+半导体”产业协同开展的全新标杆，为全球科技产业突破技术壁垒、激活创新动能注入强劲动能。

当光电子的“光速”创新遇上半导体的“精微”突破，引领全球产业协同开展的两大高端专业大展，正跨界而来、闪耀腾博会官网。
9月10日，第26届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）与SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展亮相深圳国际会展中心。此次展会以超30万平方米的展示规模、汇聚5000余家参展企业、预计吸引16万专业观众，树立起“光电子+半导体”产业协同开展的全新标杆，为全球科技产业突破技术壁垒、激活创新动能注入强劲动能。

 


作为半导体领域的先锋力量，腾博会官网半导体技术（深圳）有限公司（以下简称“腾博会官网半导体”此次携多款自主研发的核心产品及前沿技术惊艳登场，基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术，用于高质量的薄膜制备。用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备，将磁控溅射用于分子束外延的束流源等。用磁控溅射技术解决深径比高于10:1的微孔镀膜。


生产型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控溅射镀膜机用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的镀膜，深径比>10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升给予支撑。


优点：膜层均匀性及重复性高，膜层附着力强，设备依据工艺配方进行可编程自动化控制。
热丝化学气相沉积HFCVD设备：可用于制造微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、防腐耐磨硬质涂层等，广泛应用于硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜、环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极等领域。
热丝化学气相沉积HFCVD设备有助于产业升级：该设备在金刚石多晶片生长技术方面的先进性，能够促进相关产业的技术升级。在半导体产业，高质量的金刚石多晶晶圆片可作为新一代半导体材料，有助于半导体器件向更高性能、更低功耗方向开展，提升我国半导体产业在国际市场的竞争力。在机械加工产业，利用设备生长的金刚石硬质涂层刀具，可显著提高刀具的使用寿命与加工精度，有助于机械加工产业向精密化、高效化方向转型升级。​
热丝化学气相沉积HFCVD设备促进绿色环保：在环保领域，设备生长的金刚石产品可应用于污水处理。例如，金刚石电极在电化学污水处理中具有高效的催化性能，能够有效降解污水中的有机污染物，提高污水处理效率，减少化学药剂的使用，降低污水处理成本，助力环保产业的绿色开展。同时，设备在运行过程中，采用先进的节能技术与环保设计，降低能耗与污染物排放，符合可持续开展的社会需求。


等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备：在化学气相沉积中，激发气体，使其产生低温等离子体，增强反应物质的化学活性，从而进行外延的一种方法。等离子体增强化学气相沉积的主要优点是沉积温度低，对基体的结构和物理性质影响小；膜的厚度及成分均匀性好；膜组织致密、针孔少；膜层的附着力强；应用范围广，可制备各种金属膜、无机膜和有机膜。腾博会官网半导体PECVD首创双频模式，中频增加能量，射频增加通量。 


腾博会官网半导体立足于“技术前沿、市场前沿、产业前沿”的交汇点，致力于原始创新与技术攻关并重，聚焦产业痛点与国产化瓶颈，有助于关键核心技术的自主可控，构建安全可靠的高端装备国产替代路径。公司专注于微纳材料（尤其涵盖半导体材料）与先进工艺技术服务、装备的研发设计及整机制造。
公司人才团队构成科学合理，由高校教授、博士组成的高水平材料与工艺研究团队与来自工业界的资深设备设计团队深度融合，具备30余年在微纳材料与器件、PVD/CVD沉积、外延生长、薄膜装备成套设计与工程交付方面的技术积累与行业经验。现在，腾博会官网半导体服务对象涵盖军工领域核心用户、军工研究院所、技术关联上市公司、高水平国家重点实验室以及国家级人才团队（包括“千人计划”专家、长江学者、海外高层次人才等）。


此次参展，腾博会官网半导体不仅展现了其作为产业创新标杆的引领作用，更为构建开放协同的全球科技生态贡献了“深圳智慧”，助力中国半导体产业迈向更高水平的国际竞争舞台。

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