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邀请函|2024全国先进涂层与薄膜技术应用开展大会（6.18-19苏州）

发布时间：

2024-06-11

腾博会官网半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于市场前沿、产业前沿和技术前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续开展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。

　　公司简介

　　腾博会官网半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于市场前沿、产业前沿和技术前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续开展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。
　　公司核心业务是微纳材料（含半导体材料）、微纳制造工艺、微纳装备的研发设计和生产制造。
　　科研型设备：PVD、CVD、MBE分子束外延等。
　　工业生产型设备：大型蒸镀设备、多弧离子源镀膜设备、矩形磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发设备、OLED镀膜设备、HFCVD热丝化学气相沉积设备、真空高温CVD炉、六英寸MBE生产设备。
　　公司技术和产品可以广泛应用于：新材料、新能源、微电子光电子、半导体、声学、光学、微机电系统（MEMS）；传感器、生物医学、精准医疗、大健康、环保、微纳机器人、表面技术等领域。
　　公司核心研发团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队，还有来自工业界的高级装备设计师团队。公司团队具有20多年的微纳材料与器件研究（含半导体材料）、PVD/CVD沉积技术研究、外延技术研究、薄膜制备成套装备设计和生产制造的经验。
　　HFCVD热丝化学气相沉积设备

金刚石薄膜生产线

　　研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。
　　设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。
　　可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
　　可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。
　　可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
　　可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。

热丝CVD金刚石设备

　　高真空磁控溅射仪（实验型、生产型）

实验型-高真空磁控溅射仪

　　高真空磁控溅射仪是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。

生产型-高真空磁控溅射仪

　　分子束外延薄膜生长设备（MBE）

　　分子束外延薄膜生长设备（MBE）可以在某些衬底上实现外延生长工艺，实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。
　　分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有超高的真空环境，是在理想的环境下进行薄膜外延生长，它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素，得到理想的高精度薄膜。
　　我公司设计制造的分子束外延薄膜生长实验设备，分实验型和生产型两种，配置合理，结构简单，操作方便，技术先进，性能可靠，用途多，实用性强，价格相对较低，可供各大学的实验室及科研组织作为分子束外延方面的教学实验、科学研究及工艺实验之用。
　　生产型MBE可用于批量外延片的制备。

　　PECVD等离子体增强化学气相沉积设备

　　PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

　　会议名称：2024全国先进涂层与薄膜技术应用开展大会
　　会议时间：6.18-19
　　会议地点：苏州-在水一方大酒店，江苏省苏州市相城区尊园路1号

新闻中心

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