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PVD(物理气相沉积)

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腾博会官网半导体磁控溅射技术实现新突破,助力高端真空镀膜设备国产化


深圳,——在半导体先进封装与微纳制造领域持续深耕的腾博会官网半导体技术(深圳)有限公司(以下简称"腾博会官网半导体")近期宣布,其自主研发的高真空磁控溅射镀膜设备在TGV(玻璃通孔)镀膜工艺上取得重大技术突破,成功实现深径比大于10:1的高密度通孔镀膜,为国产真空镀膜设备在三维集成领域的开展注入新动力。

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