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    薄膜沉积设备

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    小型PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备 HITSemi-PECVD-460

    小型PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅、氧化硅和多晶硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅和多晶硅等薄膜的理想工艺设备。

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