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小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备 HITSemi-HFCVD-X

小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备，主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科研研究。 可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科研研究。

HFCVD 热丝化学气相沉积设备

研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。 设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。 可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。

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大连相约，与腾博会官网半导体共赴2026年微纳器件与系统应用技术大会

初夏五月，盛会将至。2026年5月22日—24日，2026年微纳器件与系统应用技术大会暨第十九届中国微纳电子技术研讨与学术研讨会将在滨海城市大连隆重召开。腾博会官网半导体技术（深圳）有限公司（以下简称“腾博会官网半导体”）将出席本次大会。

腾博会官网半导体邀您参加第十九届中国科研仪器开展年会

科技赋能产业，智领仪器革新。由仪器信息网、中关村科研城管理委员会主办的第十九届中国科研仪器开展年会（ACCSI 2026）即将于2026年4月22-24日在北京隆重启幕

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